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The results of an interlaboratory study of ellipsometric measurements of thin film silicon dioxide on silicon [microform] / Barbara J. Belzer and David L. Blackburn (Semiconductor measurement technology) (NIST special publication ; 400-99)
The results of an interlaboratory study of ellipsometric measurements of thin film silicon dioxide on silicon [microform] / Barbara J. Belzer and David L. Blackburn (Semiconductor measurement technology) (NIST special publication ; 400-99)
マイクロ
図書
1997
<YCA-C 13.10:400-99>
国立国会図書館
Thermal resistance measurements [microform] / Frank F. Oettinger and David L. Blackburn (NIST special publication ; 400-86) (Semiconductor measurement technology)
Thermal resistance measurements [microform] / Frank F. Oettinger and David L. Blackburn (NIST special publication ; 400-86) (Semiconductor measurement technology)
マイクロ
図書
1990
<YCA-C 13.10:400-86>
国立国会図書館
An automated photovoltaic system for the measurement of resistivity variations in high-resistivity circular silicon slices
An automated photovoltaic system for the measurement of resistivity variations in high-resistivity circular silicon slices
紙
図書
David L. Blackburn
U.S. G.P.O.
1979
全国の図書館
著者標目
Blackburn, David L.
Safe operating area limits for power transistors no.400:44
Safe operating area limits for power transistors no.400:44
デジタル
図書
David L. Blackburn
U.S. G.P.O.
1977
全国の図書館
著者標目
Blackburn, David L.
Journal of the Meteorological Society of Japan
Journal of the Meteorological Society of Japan
紙
雑誌
Meteorological Society of Japan
2001-
<Z54-J645>
国立国会図書館
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