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ナノメータシリコンデバイスのための近接ダブルシヨツトキーMOSFETの研究
ナノメータシリコンデバイスのための近接ダブルシヨツトキーMOSFETの研究
紙
図書
鳳, 紘一郎, 東京大学
1997-1998
<Y151-H09450137>
国立国会図書館
件名
MOSFET シヨツトキー障壁 トンネル電流
チタンシリサイド
ニツケルシリサイド SOI
非平衡相から平衡相への相変化が及ぼす緻密化挙動への効果とナノ結晶粒材の形成
非平衡相から平衡相への相変化が及ぼす緻密化挙動への効果とナノ結晶粒材の形成
紙
図書
磯西, 和夫, 滋賀大学
1999-2001
<Y151-H11650738>
国立国会図書館
件名
緻密化挙動 超塑性変形 加圧焼結 真空ホツトプレス
チタンシリサイド
Ti5Si3 メカニカルアロイング MA
Siデバイスにおける拡散バリアとしての遷移金属ナイトライドに関する研究
Siデバイスにおける拡散バリアとしての遷移金属ナイトライドに関する研究
紙
図書
伊藤, 太一郎, 大阪府立大学
1985-1988
<Y151-S60550463>
国立国会図書館
件名
Siデバイス イオンプレーテイング (IP) 法 拡散バリア TiN膜 固相反応 TiSi2 (
チタンシリサイド
)
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