財満, 鎮明, 名古屋大学1997-1999<Y151-H09555098>
国立国会図書館
- 件名Si/SiO2界面 シリコン初期酸化過程 高分解能エネルギー損失分充法 構造緩和過程 表面吸着水...
服部, 健雄, 武蔵工業大学1994-1996<Y151-H06452123>
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- 件名水素終端 シリコン 自然酸化膜 プレオキサイド 界面構造 初期酸化 酸化反応 原子スケール
服部, 健雄, 武蔵工業大学1992-1993<Y151-H04452096>
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- 件名水素終端 シリコン 初期酸化 酸化機構 界面構造 層状成長 界面反応 酸化反応
服部, 健雄, 武蔵工業大学1989-1991<Y151-H01065003>
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- 件名X線光電子分光法 角度分解X線光電子分光法 赤外全反射吸収測定法 シリコン表面の清浄化 シリコン自然酸化膜 シリコンの初期酸化 シリコン酸化膜/シリコン界面 シリコン 水素結合