検索結果 3 件
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- 件名スパッタリング 薄膜 メタリックモード High-K材料 制限反応 ZrO_2 MOSFET Sputtering Thin ...
- 一般注記...質ZrO_2膜を堆積するための制限反応スパッタ法を開発した。まずZr......:2001-2002 出典:「制限反応スパッタ製膜法による高誘電率YSZ絶縁膜の研究」研究成果報告...
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- 件名スパッタリング 薄膜 金属モード 高誘電率材料 制限反応 ZrO_2 MOSFET フラッシュ蒸着法 エピキシャル成...
- 一般注記金沢大学工学部 制限反応スパッタリングと名付けた新しいスパッタリング法を研究開発した...
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