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一酸化二窒素ガスを用いた
急速熱処理
による高品質極薄シリコン酸窒化膜の形成
一酸化二窒素ガスを用いた急速熱処理による高品質極薄シリコン酸窒化膜の形成
紙
図書
野村, 滋, 室蘭工業大学
1998-1999
<Y151-H10650328>
国立国会図書館
件名
シリコンテクノロジー 一酸化二窒素ガス
急速熱処理
極薄シリコン酸窒化膜 デバイスプロセス
有機金属気相成長法による青緑色半導体レーザの試作研究
有機金属気相成長法による青緑色半導体レーザの試作研究
紙
図書
藤田, 茂夫, 京都大学
1994-1995
<Y151-H06555006>
国立国会図書館
件名
光触媒反応 水素パツシベーシヨン 不純物添加 量子構造
急速熱処理
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