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大気圧非平衡プラズマを用いた酸化ケイ素及び酸化チタン表面への親水性の導入
大気圧非平衡プラズマを用いた酸化ケイ素及び酸化チタン表面への親水性の導入
デジタル
博士論文
障害者向け資料あり
龍, 辰
群馬大学大学院理工学府
2019-03-22
国立国会図書館
Gate dielectric integrity: material, process, and tool qualification. : conference on gate dielectric integrity (GDI) : Jan 1999, San Jose, CA. (STP ; 1382)
Gate dielectric integrity: material, process, and tool qualification. : conference on gate dielectric integrity (GDI) : Jan 1999, San Jose, CA. (STP ; 1382)
紙
図書
ASTM
c2000.
<M17-06-1350>
国立国会図書館
大気圧非平衡プラズマを用いた酸化ケイ素及び酸化チタン表面への親水性の導入
大気圧非平衡プラズマを用いた酸化ケイ素及び酸化チタン表面への親水性の導入
デジタル
博士論文
龍, 辰
群馬大学大学院理工学府
2019-03-22
インターネットで読める
全国の図書館
Silicon VLSI technology : fundamentals, practice and modeling
Silicon VLSI technology : fundamentals, practice and modeling
紙
図書
James D. Plummer, Michael Deal, Peter B. Griffin
Prentice Hall
c2000
全国の図書館
Ultrathin SiO[2] and high-K materials for USLI gate dielectrics : symposium held April 5-8, 1999, in San Francisco, California, U.S.A.
Ultrathin SiO[2] and high-K materials for USLI gate dielectrics : symposium held April 5-8, 1999, in San Francisco, California, U.S.A.
紙
図書
editors, H.R. Huff ... [et al.]
Materials Research Society
1999
全国の図書館
The Si-SiO[2] system
The Si-SiO[2] system
紙
図書
edited by Pieter Balk
Elsevier
1988
全国の図書館
電荷移動モデルによるプラズマCVD窒化(酸化)Si膜の微視的結合構造変化の解析
電荷移動モデルによるプラズマCVD窒化(酸化)Si膜の微視的結合構造変化の解析
デジタル
文書・図像類
長谷川, 誠一, Hasegawa, Seiichi
1996-04-14
平成6(1994)年度 科学研究費補助金 一般研究(C) 研究成果報告書概要 = 1994 Fiscal Year Final Research Report Summary
1993 – 1994
p.2p.-
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