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光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御
光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御
紙
図書
村田貴士 企画編集
技術情報協会
2013.6
<MC111-L7>
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“TiO2系透明導電膜のスパッタ成膜技術と低抵抗化”
光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御
“TiO2系透明導電膜のスパッタ成膜技術と低抵抗化” 光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御
紙
図書
一杉, 太郎, Hitosugi, Taro
技術情報協会
2013
p.358-366
全国の図書館
第25節 光学法、X線法によるアモルファスIGZO薄膜の構造・物性解析;
光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御
第25節 光学法、X線法によるアモルファスIGZO薄膜の構造・物性解析; 光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御
紙
図書
神谷, 利夫, KAMIYA, TOSHIO, 細野, 秀雄, HOSONO, HIDEO
2013/6/28 株式会社 技術情報協会発行
2013
p.367-376
全国の図書館
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