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イオンビーム照射による結晶性薄膜生成過程に関する基礎研究
イオンビーム照射による結晶性薄膜生成過程に関する基礎研究
紙
デジタル
博士論文
障害者向け資料あり
三橋理一郎 [著]
<UT51-2000-H356>
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極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性 : 薄膜・表面物理分科会/シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会研究報告 : 第9回研究会 (AP ; 042202)
極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性 : 薄膜・表面物理分科会/シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会研究報告 : 第9回研究会 (AP ; 042202)
紙
図書
応用物理学会薄膜・表面物理分科会, 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 編
応用物理学会薄膜・表面物理分科会
2004.1
<ND371-H112>
国立国会図書館
表面科学
表面科学
紙
雑誌
日本表面科学会 編
日本表面科学会
1980-2017
<Z15-379>
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