酸化ガリウム系ヘテロ接合界面におけるキャリア閉じ込めの観察

• 資料種別: 記事
• タイトル: 酸化ガリウム系ヘテロ接合界面におけるキャリア閉じ込めの観察
• 著者・編者: 大島 孝仁; 加藤 勇次; 河野 直士; 大石 敏之; 嘉数 誠; 倉又 朗人; 山腰 茂伸; 藤田 静雄
• シリーズタイトル: 電子デバイス研究会 次世代化合物半導体デバイスの機能と応用
• 著者標目: 大島 孝仁; 加藤 勇次; 河野 直士; 大石 敏之; 嘉数 誠; 倉又 朗人; 山腰 茂伸; 藤田 静雄
• 並列タイトル等: Observation of carrier confinement at a (Al,Ga)₂O₃/Ga₂O₃ heterojunction interface
• タイトル（掲載誌）: 電気学会研究会資料. EDD = The papers of technical meeting on electron devices, IEE Japan / 電子デバイス研究会 [編]
• 巻号年月日等（掲載誌）: 2017(42-51):2017.3.9・10
• 掲載巻: 2017
• 掲載号: 42-51
• 掲載ページ: 1-6
• 掲載年月日（W3CDTF）: 2017-03
• 出版事項（掲載誌）: 東京 : 電気学会
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 酸化ガリウム; ヘテロ接合; 変調ドープ; 分子線エピタキシー; Ga₂O₃; heterojunction; modulation doping; MBE
• NDLC: ZN33
• 対象利用者: 一般
• レポート番号（雑誌記事）: EDD-17-042
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Z43-225
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 028118787; http://id.ndl.go.jp/bib/028118787
• 整理区分コード: 632