工業用イオン源

• 資料種別: 記事
• タイトル: 工業用イオン源
• 著者・編者: 作道,訓之
• 出版事項: 日本 : プラズマ・核融合学会
• 出版年月日等: 1994-04-25
• 出版年（W3CDTF）: 1994-04-25
• 並列タイトル等: Ion Sources for Industrial Use
• タイトル（掲載誌）: プラズマ・核融合学会誌
• 巻号年月日等（掲載誌）: 70(4)
• 掲載巻: 70(4)
• 掲載ページ: 313-322
• 本文の言語コード: JPN
• 著者別名: SAKUDO,Noriyuki
• 件名標目: ion source; ion implantation; surface modification; hot-filament type ion source; microwave ion source; metal vapor vacuum arc; sputter source
• 一般注記: 著者所属: 金沢工業大学; Affiliation: Kanazawa Institute of Technology
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/10451703; https://dl.ndl.go.jp/pid/10451703
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• 収集根拠: NII-ELS
• 公開開始日（W3CDTF）: 2017-08-23
• 受理日（W3CDTF）: 2017-08-15
• 保存日（W3CDTF）: 2017-08-15
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 遠隔複写可否（NDL）: 不可
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10388776; https://dl.ndl.go.jp/pid/10388776
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

• 要約等: Industrial applications of ion beams began in the 1970's with their application in fabrication of semiconductor devices. Since then, various improveme...