2.EUVリソグラフィと露光装置(<小特集>リソグラフィ用EUV(極端紫外)光源研究の現状と将来展望)

• 資料種別: 記事
• タイトル: 2.EUVリソグラフィと露光装置(<小特集>リソグラフィ用EUV(極端紫外)光源研究の現状と将来展望)
• 著者・編者: 村上,勝彦; 岡崎,信次
• 出版事項: 日本 : プラズマ・核融合学会
• 出版年月日等: 2003-03-25
• 出版年（W3CDTF）: 2003-03-25
• 並列タイトル等: EUV Lithography and Exposure Tool (<Special Topic Article>Present Status and Future of EUV(Extreme Ultra Violet Light Source Research)
• タイトル（掲載誌）: プラズマ・核融合学会誌
• 巻号年月日等（掲載誌）: 79(3)
• 掲載巻: 79(3)
• 掲載ページ: 221-225
• 本文の言語コード: JPN
• 著者別名: MURAKAMI,Katsuhiko; OKAZAKl,Shinji
• 件名標目: EUV lithography; multilayer; projection optics; reflection mask; photoresist; throughput; EUV power
• 一般注記: Affiliation: Association of Super Advanced Electronics Technologies (ASET); Affiliation: Precision Equipment Company, Nikon Corpration; 著者所属: (株)ニコン 精機カンパニー; 著者所属: 技術研究組合 超先端電子技術開発機構
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/10455270; https://dl.ndl.go.jp/pid/10455270
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• 収集根拠: NII-ELS
• 公開開始日（W3CDTF）: 2017-08-23
• 受理日（W3CDTF）: 2017-08-15
• 保存日（W3CDTF）: 2017-08-15
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 遠隔複写可否（NDL）: 不可
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10388873; https://dl.ndl.go.jp/pid/10388873
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

• 要約等: The resolution limit of conventional optical lithography is thought to be around 70 nm. EUV lithography using EUV radiation with a wavelength region o...