2.EUVリソグラフィと露光装置(<小特集>リソグラフィ用EUV(極端紫外)光源研究の現状と将来展望)

• Material Type: 記事
• Title: 2.EUVリソグラフィと露光装置(<小特集>リソグラフィ用EUV(極端紫外)光源研究の現状と将来展望)
• Author/Editor: 村上,勝彦; 岡崎,信次
• Publication, Distribution, etc.: 日本 : プラズマ・核融合学会
• Publication Date: 2003-03-25
• Publication Date (W3CDTF): 2003-03-25
• Alternative Title: EUV Lithography and Exposure Tool (<Special Topic Article>Present Status and Future of EUV(Extreme Ultra Violet Light Source Research)
• Periodical title: プラズマ・核融合学会誌
• No. or year of volume/issue: 79(3)
• Volume: 79(3)
• Pages: 221-225
• Text Language Code: JPN
• Alias of Author: MURAKAMI,Katsuhiko; OKAZAKl,Shinji
• Subject Heading: EUV lithography; multilayer; projection optics; reflection mask; photoresist; throughput; EUV power
• Note (General): Affiliation: Association of Super Advanced Electronics Technologies (ASET); Affiliation: Precision Equipment Company, Nikon Corpration; 著者所属: (株)ニコン 精機カンパニー; 著者所属: 技術研究組合 超先端電子技術開発機構
• Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/10455270; https://dl.ndl.go.jp/pid/10455270
• Collection: 障害者向け資料
• Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• Acquisition Basis: NII-ELS
• Available (W3CDTF): 2017-08-23
• Date Accepted (W3CDTF): 2017-08-15
• Date Captured (W3CDTF): 2017-08-15
• Format (IMT): application/pdf
• Access Restrictions: インターネット公開
• Availability of remote photoduplication service: 不可
• Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/10388873; https://dl.ndl.go.jp/pid/10388873
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

• Summary, etc.: The resolution limit of conventional optical lithography is thought to be around 70 nm. EUV lithography using EUV radiation with a wavelength region o...