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電子書籍・電子雑誌分析化学
巻号35 2
イオン選択性電界効果...

イオン選択性電界効果トランジスターの製作

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イオン選択性電界効果トランジスターの製作

国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/10891136
資料種別
記事
著者
氏平,祐輔
出版者
日本分析化学会
出版年
1986-02-05
資料形態
デジタル
掲載誌名
分析化学 35(2)
掲載ページ
p.65-74
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資料に関する注記

一般注記:

著者所属: 東京大学工学部工業化学科Affiliation: Department of Industrial Chemistry, Faculty of Engineering, The University of Tokyo

資料詳細

要約等:

漏えい電流がない大きさ0.5mm×6mmのH^+,Na^+及びK^+選択性シリコン-オン-サファイア-FET(電界効果トランジスター)を試作した.H^+ISFET(水素イオン選択性電界効果トランジスター)は,FETのゲート上にTa_2O_5をスパッターで付着させて作ったが,pH 2〜10の範囲で1p...

書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
氏平,祐輔
出版年月日等
1986-02-05
出版年(W3CDTF)
1986-02-05
並列タイトル等
Fabrication of ion selective field effect transistors.
タイトル(掲載誌)
分析化学
巻号年月日等(掲載誌)
35(2)
掲載巻
35(2)