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電子書籍・電子雑誌分析化学
巻号40 4
二次イオン質量分析法...

二次イオン質量分析法による多層薄膜界面の評価におけるCsX^+二次イオン検出の有効性

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二次イオン質量分析法による多層薄膜界面の評価におけるCsX^+二次イオン検出の有効性

国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/10892605
資料種別
記事
著者
林,泰夫ほか
出版者
日本分析化学会
出版年
1991-04-05
資料形態
デジタル
掲載誌名
分析化学 40(4)
掲載ページ
p.159-162
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資料に関する注記

一般注記:

著者所属:著者所属: 旭硝子(株)中央研究所Affiliation:...

資料詳細

要約等:

多層薄膜の界面における元素の相互拡散を精密に評価する手法として, SIMSの適用を試みた.従来, SIMSによる界面分析では界面で二次イオンの生成効率が変化することに基づく特異な現象が認められるために, 特殊な場合を除き精密に界面を評価することは困難であった.本稿では, Cs^+一次イオンビームを用...

書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
林,泰夫
松本,潔
出版年月日等
1991-04-05
出版年(W3CDTF)
1991-04-05
並列タイトル等
Effectiveness of CsX^+ secondary ions in SIMS analysis of multilayer interface
タイトル(掲載誌)
分析化学
巻号年月日等(掲載誌)
40(4)
掲載巻
40(4)