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電子書籍・電子雑誌分析化学
Volume number40 4
二次イオン質量分析法...

二次イオン質量分析法による多層薄膜界面の評価におけるCsX^+二次イオン検出の有効性

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二次イオン質量分析法による多層薄膜界面の評価におけるCsX^+二次イオン検出の有効性

Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/10892605
Material type
記事
Author
林,泰夫ほか
Publisher
日本分析化学会
Publication date
1991-04-05
Material Format
Digital
Journal name
分析化学 40(4)
Publication Page
p.159-162
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Note (General):

著者所属:著者所属: 旭硝子(株)中央研究所Affiliation:...

Detailed bibliographic record

Summary, etc.:

多層薄膜の界面における元素の相互拡散を精密に評価する手法として, SIMSの適用を試みた.従来, SIMSによる界面分析では界面で二次イオンの生成効率が変化することに基づく特異な現象が認められるために, 特殊な場合を除き精密に界面を評価することは困難であった.本稿では, Cs^+一次イオンビームを用...

Bibliographic Record

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Digital

Material Type
記事
Author/Editor
林,泰夫
松本,潔
Publication, Distribution, etc.
Publication Date
1991-04-05
Publication Date (W3CDTF)
1991-04-05
Alternative Title
Effectiveness of CsX^+ secondary ions in SIMS analysis of multilayer interface
Periodical title
分析化学
No. or year of volume/issue
40(4)
Volume
40(4)