マスキング剤を用いた高純度ニッケル中の微量ケイ素の定量

• 資料種別: 記事
• タイトル: マスキング剤を用いた高純度ニッケル中の微量ケイ素の定量
• 著者・編者: 清川,政義; 山口,仁志; 長谷川,良佑
• 出版事項: 日本 : 日本分析化学会
• 出版年月日等: 1994-04-05
• 出版年（W3CDTF）: 1994-04-05
• 並列タイトル等: Determination of trace silicon in high purity nickel using a masking reagent for the matrix element
• タイトル（掲載誌）: 分析化学
• 巻号年月日等（掲載誌）: 43(4)
• 掲載巻: 43(4)
• 掲載ページ: 289-293
• 本文の言語コード: JPN
• 著者別名: KIYOKAWA,Masayoshi; YAMAGUCHI,Hitoshi; HASEGAWA,Ryosuke
• 件名標目: determination of trace silicon; high purity nickel; silicon tetrafluoride separation; masking of nickel; molybdosilicic acid blue spectrophotometry
• 一般注記: 著者所属: 著者所属: 科学技術庁金属材料技術研究所; Affiliation: Affiliation: National Research Institute of Metals
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/10893311; https://dl.ndl.go.jp/pid/10893311
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• 収集根拠: NII-ELS
• 公開開始日（W3CDTF）: 2017-08-30
• 受理日（W3CDTF）: 2017-08-22
• 保存日（W3CDTF）: 2017-08-22
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 遠隔複写可否（NDL）: 不可
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10399476; https://dl.ndl.go.jp/pid/10399476
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

• 要約等: 高純度ニッケル中の微量ケイ素定量はJIS法では感度的に不十分である.又, 微量ケイ素の定量法として用いられているフッ化物分離法では, マトリックスのニッケル量が増えると硫酸ニッケルの沈殿が生じ, ケイ素の揮発分離が阻害されるため, ppmオーダまでのケイ素の定量しかできない.そこで, クエン酸を用い...