マスキング剤を用いた高純度ニッケル中の微量ケイ素の定量

• Material Type: 記事
• Title: マスキング剤を用いた高純度ニッケル中の微量ケイ素の定量
• Author/Editor: 清川,政義; 山口,仁志; 長谷川,良佑
• Publication, Distribution, etc.: 日本 : 日本分析化学会
• Publication Date: 1994-04-05
• Publication Date (W3CDTF): 1994-04-05
• Alternative Title: Determination of trace silicon in high purity nickel using a masking reagent for the matrix element
• Periodical title: 分析化学
• No. or year of volume/issue: 43(4)
• Volume: 43(4)
• Pages: 289-293
• Text Language Code: JPN
• Alias of Author: KIYOKAWA,Masayoshi; YAMAGUCHI,Hitoshi; HASEGAWA,Ryosuke
• Subject Heading: determination of trace silicon; high purity nickel; silicon tetrafluoride separation; masking of nickel; molybdosilicic acid blue spectrophotometry
• Note (General): 著者所属: 著者所属: 科学技術庁金属材料技術研究所; Affiliation: Affiliation: National Research Institute of Metals
• Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/10893311; https://dl.ndl.go.jp/pid/10893311
• Collection: 障害者向け資料
• Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• Acquisition Basis: NII-ELS
• Available (W3CDTF): 2017-08-30
• Date Accepted (W3CDTF): 2017-08-22
• Date Captured (W3CDTF): 2017-08-22
• Format (IMT): application/pdf
• Access Restrictions: インターネット公開
• Availability of remote photoduplication service: 不可
• Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/10399476; https://dl.ndl.go.jp/pid/10399476
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

• Summary, etc.: 高純度ニッケル中の微量ケイ素定量はJIS法では感度的に不十分である.又, 微量ケイ素の定量法として用いられているフッ化物分離法では, マトリックスのニッケル量が増えると硫酸ニッケルの沈殿が生じ, ケイ素の揮発分離が阻害されるため, ppmオーダまでのケイ素の定量しかできない.そこで, クエン酸を用い...