黒鉛炉原子吸光法によるフォトレジスト中のケイ素の定量

• 資料種別: 記事
• タイトル: 黒鉛炉原子吸光法によるフォトレジスト中のケイ素の定量
• 著者・編者: 水谷,晶代; 吉田,正道
• 出版事項: 日本 : 日本分析化学会
• 出版年月日等: 1995-03-05
• 出版年（W3CDTF）: 1995-03-05
• 並列タイトル等: Determination of silicon in photoresist by graphite-furnace AAS.
• タイトル（掲載誌）: 分析化学
• 巻号年月日等（掲載誌）: 44(3)
• 掲載巻: 44(3)
• 掲載ページ: 231-235
• 本文の言語コード: JPN
• 著者別名: MIZUTANI,Akiyo (nee Motoyama); YOSHIDA,Masamichi
• 件名標目: determination of silicon; photoresist; graphite-furnace AAS; calcium
• 一般注記: 著者所属: 富士通(株)プロセス開発部; Affiliation: Process Development Division, Material Department, Fujitsu Ltd.
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/10893567; https://dl.ndl.go.jp/pid/10893567
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• 収集根拠: NII-ELS
• 公開開始日（W3CDTF）: 2017-08-30
• 受理日（W3CDTF）: 2017-08-22
• 保存日（W3CDTF）: 2017-08-22
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 遠隔複写可否（NDL）: 不可
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10399487; https://dl.ndl.go.jp/pid/10399487
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

• 要約等: フォトレジスト中のケイ素量を黒鉛炉原子吸光法で直接定量をするための測定条件を検討した.測定の際炉内に試料を注入する前にマトリックス修飾剤としてカルシウム溶液を注入することにより高感度化を図った.まずカルシウム溶液を炉に注入し乾燥後, 2-エトキシエチルアセテート(EEA)で樹脂量が3%になるように希...