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電子書籍・電子雑誌分析化学
Volume number44 3
黒鉛炉原子吸光法によ...

黒鉛炉原子吸光法によるフォトレジスト中のケイ素の定量

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黒鉛炉原子吸光法によるフォトレジスト中のケイ素の定量

Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/10893567
Material type
記事
Author
水谷,晶代ほか
Publisher
日本分析化学会
Publication date
1995-03-05
Material Format
Digital
Journal name
分析化学 44(3)
Publication Page
p.231-235
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Notes on use

Note (General):

著者所属: 富士通(株)プロセス開発部Affiliation: Process Development Division, Material Department, Fujitsu Ltd.

Detailed bibliographic record

Summary, etc.:

フォトレジスト中のケイ素量を黒鉛炉原子吸光法で直接定量をするための測定条件を検討した.測定の際炉内に試料を注入する前にマトリックス修飾剤としてカルシウム溶液を注入することにより高感度化を図った.まずカルシウム溶液を炉に注入し乾燥後, 2-エトキシエチルアセテート(EEA)で樹脂量が3%になるように希...

Bibliographic Record

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Digital

Material Type
記事
Author/Editor
水谷,晶代
吉田,正道
Publication, Distribution, etc.
Publication Date
1995-03-05
Publication Date (W3CDTF)
1995-03-05
Alternative Title
Determination of silicon in photoresist by graphite-furnace AAS.
Periodical title
分析化学
No. or year of volume/issue
44(3)
Volume
44(3)