イオンスパッタリング法による窒化ほう素皮膜の生成

• 資料種別: 記事
• タイトル: イオンスパッタリング法による窒化ほう素皮膜の生成
• 著者・編者: 黒沢和芳; 水野和康; 川本直樹
• 出版事項: 日本 : あいち産業科学技術総合センター
• 出版年月日等: 1995
• 出版年（W3CDTF）: 1995
• 並列タイトル等: Boron nitride coatings by ion sputtering method
• タイトル（掲載誌）: 愛知県工業技術センター報告
• 巻号年月日等（掲載誌）: (31)
• 掲載巻: (31)
• 本文の言語コード: jpn
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/10966889; https://dl.ndl.go.jp/pid/10966889
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 地方公共団体 > 都道府県 > 愛知県; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00069
• 収集根拠: インターネット資料収集保存事業（WARP）
• 受理日（W3CDTF）: 2017-10-13T21:28:21+09:00
• 保存日（W3CDTF）: 2012-03-19
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 遠隔複写可否（NDL）: 不可
• 掲載誌（URI）: https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/3487043/www.aichi-inst.jp/research/report/#report1995
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10966885; https://dl.ndl.go.jp/pid/10966885
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp