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準溶融表面の液相エピ...

準溶融表面の液相エピタキシャル結晶成長を応用したウェーハ表面微細加工技術の研究

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準溶融表面の液相エピタキシャル結晶成長を応用したウェーハ表面微細加工技術の研究

国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/14443799
資料種別
記事
著者
西村高志
出版者
京都技術科学センター
出版年
-
資料形態
デジタル
掲載誌名
研究助成成果報告書 2019年度
掲載ページ
-
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
西村高志
並列タイトル等
Fabrication of the silicon micro-structures via local liquid phase epitaxy
タイトル(掲載誌)
研究助成成果報告書
巻号年月日等(掲載誌)
2019年度
掲載巻
2019年度
本文の言語コード
jpn
国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/14443799