準溶融表面の液相エピタキシャル結晶成長を応用したウェーハ表面微細加工技術の研究

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/14443799

Material type: 記事

Author: 西村高志

Publisher: 京都技術科学センター

Publication date: -

Material Format: Digital

Journal name: 研究助成成果報告書 2019年度

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Digital

Material Type: 記事
Title: 準溶融表面の液相エピタキシャル結晶成長を応用したウェーハ表面微細加工技術の研究
Author/Editor: 西村高志
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 京都技術科学センター
Alternative Title: Fabrication of the silicon micro-structures via local liquid phase epitaxy
Periodical title: 研究助成成果報告書
No. or year of volume/issue: 2019年度
Volume: 2019年度
Text Language Code: jpn
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/14443799
https://dl.ndl.go.jp/pid/14443799
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
Acquisition Basis: インターネット資料収集保存事業（WARP）
Date Accepted (W3CDTF): 2025-08-01T13:06:39+09:00
Date Captured (W3CDTF): 2024-05-20
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Availability of remote photoduplication service: 不可
Periodical Title (URI): https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/13694366/www.khc.or.jp/enquiry/result/2019results.html
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/14443798
https://dl.ndl.go.jp/pid/14443798
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp

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