化合物半導体デバイス用ドライプロセス技術に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 化合物半導体デバイス用ドライプロセス技術に関する研究
• Title Transcription: カゴウブツ ハンドウタイ デバイスヨウ ドライ プロセス ギジュツ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 三谷克彦 [著]
• Author Heading: 三谷, 克彦 ミタニ, カツヒコ
• Degree grantor/type: 名古屋大学
• Date Granted: 平成8年12月9日
• Date Granted (W3CDTF): 1996
• Dissertation Number: 乙第5113号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-97-G145
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000308013; http://id.ndl.go.jp/bib/000000308013
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1-1 GaAs電子デバイスの位置付け

1-2 超高速化,高集積化のためのプロセス課題

1-3 電極プロセスの現状と課題