全反射蛍光X線分析に用いられる標準試料の作製とその高精度分析への応用に関する研究
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Table of Contents
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目次
p1
第1章 TXRF法における標準試料の重要性と現状
p1
1-1.半導体分析分野における金属汚染の問題
p1
1-2. TXRF法の原理,位置づけと問題点
p3
1-3. TXRF用標準試料に求められる特性
p6
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Bibliographic Record
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- Material Type
- 博士論文
- Title Transcription
- ゼンハンシャ ケイコウ Xセン ブンセキ ニ モチイラレル ヒョウジュン シリョウ ノ サクセイ ト ソノ コウセイド ブンセキ エ ノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
- Author/Editor
- 森良弘 [著]
- Author Heading
- 森, 良弘 モリ, ヨシヒロ
- Degree grantor/type
- 九州大学
- Date Granted
- 平成11年3月25日
- Date Granted (W3CDTF)
- 1999
- Dissertation Number
- 乙第6852号
- Degree Type
- 博士(工学)