Atomistic etching mechanisms and surface structure of silicon in aqueous solutions

• Material Type: 博士論文
• Title: Atomistic etching mechanisms and surface structure of silicon in aqueous solutions
• Author/Editor: 吹留博一 [著]
• Author Heading: 吹留, 博一 フキドメ, ヒロカズ
• Alternative Title: 種々の水溶液中におけるシリコンの原子レベルでのエッチング機構と表面構造 シュジュ ノ スイヨウエキチュウ ニ オケル シリコン ノ ゲンシ レベル デ ノ エッチング キコウ ト ヒョウメン コウゾウ
• Degree grantor/type: 大阪大学
• Date Granted: 平成12年3月24日
• Date Granted (W3CDTF): 2000
• Dissertation Number: 甲第7540号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2000-H436
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000354659; http://id.ndl.go.jp/bib/000000354659
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

Contents

Chapter 1

General Introduction

Chapter 2

Dissolution process of Si in aqueous fluoride-containing solutions