希ガスイオン照射を用いたセラミックス材料の表面微細加工に関する基礎的研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 希ガスイオン照射を用いたセラミックス材料の表面微細加工に関する基礎的研究
• Title Transcription: キガス イオン ショウシャ オ モチイタ セラミックス ザイリョウ ノ ヒョウメン ビサイ カコウ ニ カンスル キソテキ ケンキュウ
• Author/Editor: 大塚智史 [著]
• Author Heading: 大塚, 智史 オオツカ, サトシ
• Publication, Distribution, etc.: [大塚智史]
• Publication Date: [2000]
• Publication Date (W3CDTF): 2000
• Extent: 1冊
• Degree grantor/type: 東北大学
• Date Granted: 平成12年3月23日
• Date Granted (W3CDTF): 2000
• Dissertation Number: 甲第7382号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2000-S587
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000394319; http://id.ndl.go.jp/bib/000000394319
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

第1章 序論

1-1 固体の表面イオン照射効果

1-2 従来の表面微細加工法

1-3 希ガスイオン照射による表面微細加工の可能性