赤外散乱トモグラフィによるシリコン単結晶の評価技術

• Material Type: 博士論文
• Title: 赤外散乱トモグラフィによるシリコン単結晶の評価技術
• Title Transcription: セキガイ サンラン トモグラフィ ニ ヨル シリコン タンケッショウ ノ ヒョウカ ギジュツ
• Author/Editor: 南郷脩史 [著]
• Author Heading: 南郷, 脩史 ナンゴウ, ノブヒト
• Publication, Distribution, etc.: [南郷脩史]
• Publication Date: [2001]
• Publication Date (W3CDTF): 2001
• Extent: 2冊
• Degree grantor/type: 学習院大学
• Date Granted: 平成13年3月9日
• Date Granted (W3CDTF): 2001
• Dissertation Number: 乙第98号
• Degree Type: 博士 (理学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2001-F503
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000400450; http://id.ndl.go.jp/bib/000000400450
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

Table of Contents

目次

1.始めに

2.赤外散乱トモグラフィ (Infrared light scattering tomography:IR-LST)技術

2.1 赤外線散乱トモグラフィによる欠陥観察

2.2 散乱光強度の補止とノイズ除去