図書

半導体デバイス用の電極配線材料の基礎と最近の進歩 (金属学会セミナー・テキスト)

Icons representing 図書

半導体デバイス用の電極配線材料の基礎と最近の進歩

(金属学会セミナー・テキスト)

Call No. (NDL)
ND371-G99
Bibliographic ID of National Diet Library
000002739610
Material type
図書
Author
日本金属学会
Publisher
日本金属学会
Publication date
1997.12
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
107p ; 26cm
NDC
549.8
View All

Notes on use

Note (General):

執筆: 木村紳一郎ほか

Search by Bookstore

Table of Contents

  • 目次

  • 多層配線技術の展望ーデバイスの性能向上を維持するために、配線・インターコネクト技術に期待すること/ 1ー8

    木村紳一郎

  • 1. はじめに/ 1

  • 2. MOSFET微細化の指針と、性能向上を阻害する要因の分析/ 1

  • 3. MOSFETの寄生抵抗を低減するための電極配線技術/ 2

Holdings of Libraries in Japan

This page shows libraries in Japan other than the National Diet Library that hold the material.

Please contact your local library for information on how to use materials or whether it is possible to request materials from the holding libraries.

other

  • CiNii Research

    Search Service
    Paper
    You can check the holdings of institutions and databases with which CiNii Research is linked at the site of CiNii Research.

Bibliographic Record

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Paper

Material Type
図書
ISBN
4-88903-115-4
Title Transcription
ハンドウタイ デバイスヨウ ノ デンキョク ハイセン ザイリョウ ノ キソ ト サイキン ノ シンポ
Author Heading
日本金属学会 ニホン キンゾク ガッカイ ( 00256733 )Authorities
Publication Date
1997.12
Publication Date (W3CDTF)
1997
Extent
107p