ULSIデバイスの研究・開発に必要な先端分析技術 : 基礎から応用まで

• Material Type: 図書
• Title: ULSIデバイスの研究・開発に必要な先端分析技術 : 基礎から応用まで
• Title Transcription: ULSI デバイス ノ ケンキュウ カイハツ ニ ヒツヨウナ センタン ブンセキ ギジュツ : キソ カラ オウヨウ マデ
• Author/Editor: 応用物理学会薄膜・表面物理分科会 編
• Series Title: AP ; 052348. 薄膜・表面物理基礎講座 ; 第34回
• Author Heading: 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: [東京] : 応用物理学会薄膜・表面物理分科会
• Publication Date: 2005.11
• Publication Date (W3CDTF): 2005
• Extent: 96p
• Size: 26cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: 集積回路--論文集 シュウセキカイロ ロンブンシュウ ( 00950811 )Authorities
• NDC 9th ed.: 549.7 : Electronic engineering
• NDLC: ND386
• Target Audience: 一般
• Note (General): 会期・会場: 2005年11月10日-11日 筑波大学東京キャンパスG501講義室
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND386-H139
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000008059758; http://id.ndl.go.jp/bib/000008059758
• National Bibliography No. (JPNO): 20970405
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

• Contents: 11月10日 (木)総説ULSI開発に不可欠なナノレベル分析評価技術 / 上田修 著先端半導体ウェハーの表面評価技術 / 杉山直治 著...

Table of Contents

プログラム(目次)

「ULSIデバイスの研究・開発に必要な先端分析技術：基礎から応用まで」

11月10日(木)

10:00〜11:30　総説ULSI開発に不可欠なナノレベル分析評価技術/ 1

12:30〜13:45　先端半導体ウェハーの表面評価技術/ 15