Siデバイス・プロセス技術の開発史 = Development of silicon device and process technologies : 極限追及と実用化

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-908520-12-9
• Title: Siデバイス・プロセス技術の開発史 : 極限追及と実用化
• Title Transcription: Si デバイス ・ プロセス ギジュツ ノ カイハツシ : キョクゲン ツイキュウ ト ジツヨウカ
• Author/Editor: 向井久和 監修; 通研半導体技術史 (Siデバイス・プロセス編) 編集委員会 編著
• Author Heading: 向井, 久和 ムカイ, ヒサカズ ( 001231585 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: [東京] : 日本電信電話先端集積デバイス研究所
• Publication Date: 2017.3
• Publication Date (W3CDTF): 2017
• Extent: 401p
• Size: 30cm
• Alternative Title: Development of silicon device and process technologies Development of silicon device and process technologies; Development of silicon device and process technologies
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: 半導体 ハンドウタイ ( 00562913 )Authorities
• NDC 10th ed.: 549.8 : Electronic engineering
• NDLC: ND371
• Target Audience: 一般
• Note (General): 発行所: サイバー出版センター
• Note (Bibliography): 文献あり
• Price: 5000円
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND371-L110
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 028132070; http://id.ndl.go.jp/bib/028132070
• National Bibliography No. (JPNO): 22904915
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

Table of Contents

Siデバイス・プロセス技術の開発史

第1章 はじめに

1.1 半導体技術の勃興と通信インフラストラクチャの発展

-半導体デバイス・プロセス技術研究の背景と位置づけ-/ 1

1.2 通研におけるSi半導体デバイス・プロセス技術研究の歴史/ 3

1.2.1 半導体黎明期における研究実用化

-GeトランジスタからSiトランジスタ、そして集積回路へ-/ 3