化合物半導体のエピタキシャル成長 : 多様な成長技術とその応用

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-7536-5051-4
• Title: 化合物半導体のエピタキシャル成長 : 多様な成長技術とその応用
• Title Transcription: カゴウブツ ハンドウタイ ノ エピタキシャル セイチョウ : タヨウ ナ セイチョウ ギジュツ ト ソノ オウヨウ
• Author/Editor: 堀越佳治, 河原塚篤 共著
• Author Heading: 著者 ： 堀越, 佳治, 1943- ホリコシ, ヨシジ, 1943- ( 001354595 )Authorities; 著者 ： 河原塚, 篤 カワハラズカ, アツシ ( 033264753 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : 内田老鶴圃 (出版)
• Publication Date: 2023.12
• Publication Date (W3CDTF): 2023
• Extent: 220p
• Size: 21cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Content Type: テキスト
• Media Type: 機器不用
• Carrier Type: 冊子
• Subject Heading: 化合物半導体 カゴウブツハンドウタイ ( 01090516 )Authorities; 薄膜 ハクマク ( 00562857 )Authorities
• NDC 10th ed.: 549.8 : Electronic engineering
• NDLC: ND371
• Target Audience: 一般
• Note (Bibliography): 索引あり
• Price: 4400円
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND371-R1
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 033209851; http://id.ndl.go.jp/bib/033209851
• National Bibliography No. (JPNO): 23933910
• TOHAN MARC No.: 34554963
• Cataloging Rule: Nippon Cataloging Rules 2018 Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

• Summary, etc.: 化合物半導体のエピタキシャル成長技術に要求される性能は時代にかかわらず高い結晶品質，高い膜厚制御性，低い製造コスト，そして量産性である．本書は様々なエピタキシャル成長技術に直接触れ，長年研究してきた著者がその知見をまとめたものである．【目次】第1章 半導体の種類と特徴1.1 はじめに1.2 Ⅳ族半導...
• Author introduction: 堀越佳治 東北大学工学部電気工学科卒，同大大学院工学研究科電子工学専攻修士課程，博士課程修了．工学博士．NTT基礎研究所研究員，ドイツ・マックスプランク固体研究所研究員，北海道大学客員教授，東北大学客員教授を経て，早稲田大学理工学部教授．早稲田大学名誉教授．河原塚篤 早稲田大学理工学部電気・情報生命...

Table of Contents

第1章　半導体の種類と特徴

1.1　はじめに

1.2　Ⅳ族半導体

1.3　Ⅲ-Ⅴ族化合物半導体

1.4　その他の化合物半導体