超LSI共同研究所とその波及 : 日本半導体製造装置・材料を世界一にしたプロジェクト

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-86345-578-8
• Title: 超LSI共同研究所とその波及 : 日本半導体製造装置・材料を世界一にしたプロジェクト
• Title Transcription: チョウエルエスアイ キョウドウ ケンキュウジョ ト ソノ ハキュウ : ニホン ハンドウタイ セイゾウ ソウチ ザイリョウ オ セカイイチ ニ シタ プロジェクト
• Author/Editor: 垂井康夫 監修; 超LSI共同研究所元所員 著
• Author Heading: 監修者 ： 垂井, 康夫, 1929- タルイ, ヤスオ, 1929- ( 00082811 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : 丸善プラネット (出版); 東京 : 丸善出版 (頒布)
• Publication Date: 2025.3
• Publication Date (W3CDTF): 2025
• Extent: 243p
• Size: 21cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Content Type: テキスト
• Media Type: 機器不用
• Carrier Type: 冊子
• Subject Heading: 超エル・エス・アイ技術研究組合共同研究所 チョウ エル ・ エス ・ アイ ギジュツ ケンキュウ クミアイ キョウドウ ケンキュウジョ ( 031282258 )Authorities
• NDC 10th ed.: 549.7 : Electronic engineering
• NDLC: ND386
• Target Audience: 一般
• Note (General): 奥付のタイトル関連情報(誤植): 日本半導体製造装置・技術を世界一にしたプロジェクト
• Price: 1500円
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND386-R14
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 033995507; http://id.ndl.go.jp/bib/033995507
• National Bibliography No. (JPNO): 24107114
• TOHAN MARC No.: 34720297
• Cataloging Rule: Nippon Cataloging Rules 2018 Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

• Summary, etc.: 超LSI研究所は1976年に設立された官民合同の技術研究組合で、競合会社（富士通、日立、三菱、日電、東芝）の技術者が共同研究する事は世界初の試みである。僅か四年の期間ではあったが、多大な成果を主に、基礎的共通的な製造装置の開発で上げ、日本が1980年代初期の半導体世界精算シェアの第一位に上り詰めるの...
• Author introduction: 垂井 康夫 1929年に東京市小石川で生まれ、1951年に早稲田大学第一理工学部電気工学科を卒業して工業技術院電気試験所に入所した。1958年にバイポーラトランジスタと電界効果トランジスタを一体化した一種の集積回路の特許を申請し、1961年1月21日に傳田精一のグループと共に日本で最初の集積回路を完...

Table of Contents

はしがき（超LSI共同研究所元所長　垂井康夫）

「寄稿」超LSI共同研究所時代の社会実態と今日における人材育成の重要性（田島節子）

序論―日本の半導体は世界シェア50％を得た後、なぜ下降を辿ったのか（垂井康夫）

1章 超LSI 共同研究所の設立前夜とその成果（垂井康夫）

2章 電子線源と電子光学系（中筋護）