二次イオン質量分析法

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-621-31135-6
• Title: 二次イオン質量分析法
• Title Transcription: ニジ イオン シツリョウ ブンセキホウ
• Edition: 第2版
• Series Title: 表面分析技術選書
• Author/Editor (Series Title): 日本表面真空学会 編
• Author Heading: 編集責任者 ： 日本表面真空学会 ニホン ヒョウメン シンクウ ガッカイ ( 001293349 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : 丸善出版 (出版)
• Publication Date: 2025.5
• Publication Date (W3CDTF): 2025
• Extent: 226p
• Size: 21cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Content Type: テキスト
• Media Type: 機器不用
• Carrier Type: 冊子
• Subject Heading: 表面 (工学) ヒョウメン (コウガク) ( 00563858 )Authorities; 質量分析 シツリョウブンセキ ( 00571301 )Authorities; イオンビーム イオンビーム ( 00576754 )Authorities
• NDC 10th ed.: 428.4 : Physical properties of matter
• NDLC: MC141
• Target Audience: 一般
• Note (Bibliography): 索引あり
• Note (Original Version): 初版: 丸善 1999年刊
• Price: 4000円
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: MC141-R13
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 034098362; http://id.ndl.go.jp/bib/034098362
• National Bibliography No. (JPNO): 24130295
• TOHAN MARC No.: 34741938
• Cataloging Rule: Nippon Cataloging Rules 2018 Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

• Summary, etc.: 二次イオン質量分析法（SIMS）は，試料表面にイオンビームを照射し，飛び出した二次イオンの質量を検出して物質を同定し，さらに各物質の試料中での分布をイメージングする手法である．金属や半導体から高分子材料, 生体試料にも適用できる分析法として，多くの研究分野で活用されている．25年ぶりの大改訂となる本...

Table of Contents

1　二次イオン質量分析法（SIMS）とは何か/1.1　なぜSIMSで表面分析ができるのか/1.2　なぜSIMSで深さ方向分析ができるのか/1.3　なぜSIMSでイメージングができるのか/1.4　SIMSの歴史/1.5　SIMSで分析できる試料/2　 SIMSの原理/2.1　スパッタリング収率/2.2　二次イオン化率 と二次イオン収率/2.3　マトリックス効果/3　SIMS装置の基礎/3.1　装置の概略/3.2　一次イオン照射系/3.3　ガスクラスターイオンビーム（GCIB）/3.4　二次イオン質量分析計/3.5　高空間分解能SIMS/4　SIMSによる測定の実際/4.1　試料の準備/4.2　無機物の定性分析/4.3　有機物の定性分析/4.4　定量分析/4.5　深さ方向分析/4.6　二次元・三次元イメージング/5　SIMSの応用・発展/5.1　無機物・金属・半導体の測定および元素分析/5.2　有機物・高分子の測定/5.3　生体試料の測定/5.4　発展的手法/おわりに：これからのSIMS/索引