スパッタ法による磁性薄膜堆積過程のシミュレーション

• Material Type: 記事
• Title: スパッタ法による磁性薄膜堆積過程のシミュレーション
• Author/Editor: 星,陽一; 鈴木,英佐
• Publication, Distribution, etc.: 日本 : 日本応用磁気学会
• Publication Date: 1998-07-01
• Publication Date (W3CDTF): 1998-07-01
• Alternative Title: Computer Simulation of Sputter-Deposition Processes for Magnetic Thin Films
• Periodical title: 日本応用磁気学会誌
• No. or year of volume/issue: 22(7)
• Volume: 22(7)
• Pages: 1119-1124
• Text Language Code: JPN
• Alias of Author: Hoshi,Y; Suzuki,E
• Subject Heading: computer simulation; sputtering; sputter deposition; gas scattering; high-energy particle bombardment; magnetic thin film; microstructure; surface migration
• Note (General): 著者所属: 東京工芸大学工学部; Affiliation: Faculty of Engineering, Tokyo Institute of Polytechnics
• Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/10464057; https://dl.ndl.go.jp/pid/10464057
• Collection: 障害者向け資料
• Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• Acquisition Basis: NII-ELS
• Available (W3CDTF): 2017-08-23
• Date Accepted (W3CDTF): 2017-08-15
• Date Captured (W3CDTF): 2017-08-15
• Format (IMT): application/pdf
• Access Restrictions: インターネット公開
• Availability of remote photoduplication service: 不可
• Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/10389049; https://dl.ndl.go.jp/pid/10389049
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

• Summary, etc.: A computer simulation method for sputter deposition processes is introduced, and some of the simulated results obtained are presented. The effects of ...