低抵抗シリコン基板を用いたポーラスシリコンの作製

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11053516

Material type: 記事

Author: 大向雅人ほか

Publisher: 国立高等専門学校機構明石工業高等専門学校

Publication date: 2005-12

Material Format: Digital

Journal name: 明石工業高等専門学校研究紀要 (48)

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Note (General)：: ウェブページ記載の著者: 大向雅人、青位裕輔、藤澤宣弘

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Digital

Material Type: 記事
Title: 低抵抗シリコン基板を用いたポーラスシリコンの作製
Author/Editor: 大向雅人
青位祐輔
藤澤宣弘
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 国立高等専門学校機構明石工業高等専門学校
Publication Date: 2005-12
Publication Date (W3CDTF): 2005-12
Alternative Title: Fabrication of porous silicon using low-resistivity silicon wafer
Periodical title: 明石工業高等専門学校研究紀要
No. or year of volume/issue: (48)
Volume: (48)
ISSN (Periodical Title): 1880-8522
ISSN-L (Periodical Title): 1880-8522
Text Language Code: jpn
Note (General): ウェブページ記載の著者: 大向雅人、青位裕輔、藤澤宣弘
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11053516
https://dl.ndl.go.jp/pid/11053516
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 独立行政法人
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00033
Acquisition Basis: インターネット資料収集保存事業（WARP）
Date Accepted (W3CDTF): 2018-03-15T11:21:32+09:00
Date Captured (W3CDTF): 2017-01-09
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
Availability of remote photoduplication service: 不可
Note (Availability): 本資料は、印刷できません。
Periodical Title (URI): https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10250864/www.akashi.ac.jp/library/bulletin/no48
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/11053512
https://dl.ndl.go.jp/pid/11053512
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp