化学気相蒸着プロセス及び機器の特徴と応用 (フォーラム「膜形成プロセスとその応用」)

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11141713

Material type: 記事

Author: 川合,弘ほか

Publisher: 溶接学会

Publication date: 1988-08-29

Material Format: Digital

Journal name: 溶接学会全国大会講演概要 (43)

Publication Page: p.20-24

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Note (General)：: 著者所属: 研究開発本部伊丹研究所著者所属: 電子材料研究部

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Digital

Material Type: 記事
Title: 化学気相蒸着プロセス及び機器の特徴と応用 (フォーラム「膜形成プロセスとその応用」)
Author/Editor: 川合,弘
藤森,直治
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 溶接学会
Publication Date: 1988-08-29
Publication Date (W3CDTF): 1988-08-29
Alternative Title: Process and Equipments of CVD, and Applications of CVD Films
Periodical title: 溶接学会全国大会講演概要
No. or year of volume/issue: (43)
Volume: (43)
Pages: 20-24
Text Language Code: JPN
Alias of Author: Kawai,Hiromu
Fujimori,Naoji
Note (General): 著者所属: 研究開発本部伊丹研究所
著者所属: 電子材料研究部
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11141713
https://dl.ndl.go.jp/pid/11141713
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
Acquisition Basis: NII-ELS
Available (W3CDTF): 2018-09-12
Date Accepted (W3CDTF): 2018-09-05
Date Captured (W3CDTF): 2018-09-05
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Availability of remote photoduplication service: 不可
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/11151257
https://dl.ndl.go.jp/pid/11151257
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp