シリコン基板上集積横注入薄膜レーザ

Bibliographic Record

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Material Type: 記事
Title: シリコン基板上集積横注入薄膜レーザ
Author/Editor: 硴塚孝明
藤井拓郎
武田浩司
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 日本電信電話株式会社
Publication Date: 2015-11
Publication Date (W3CDTF): 2015-11
Periodical title: NTT技術ジャーナル
No. or year of volume/issue: 27(11)
Volume: 27(11)
Text Language Code: jpn
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/12917945
https://dl.ndl.go.jp/pid/12917945
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
Acquisition Basis: インターネット資料収集保存事業（WARP）
Date Accepted (W3CDTF): 2023-07-10T10:53:04+09:00
Date Captured (W3CDTF): 2022-04-17
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Availability of remote photoduplication service: 不可
Periodical Title (URI): https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/12232857/journal.ntt.co.jp/backnumber2/1511/special.html
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/12917940
https://dl.ndl.go.jp/pid/12917940
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp