CMP後洗浄のスピンリンス工程におけるウェーハ表面への液中粒子再付着メカニズムに関する研究

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/13381509

Material type: 記事

Author: 半田直廉ほか

Publisher: 荏原製作所

Publication date: 2023-04

Material Format: Digital

Journal name: エバラ時報 (265)

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Bibliographic Record

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Digital

Material Type: 記事
Title: CMP後洗浄のスピンリンス工程におけるウェーハ表面への液中粒子再付着メカニズムに関する研究
Author/Editor: 半田直廉
檜山浩國
天谷賢児
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 荏原製作所
Publication Date: 2023-04
Publication Date (W3CDTF): 2023-04
Alternative Title: Study on re-adhesion mechanism of detached nanoparticles to wafer surface during spin rinse process in post CMP cleaning process
Periodical title: エバラ時報
No. or year of volume/issue: (265)
Volume: (265)
Text Language Code: jpn
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/13381509
https://dl.ndl.go.jp/pid/13381509
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
Acquisition Basis: オンライン資料収集制度
Date Accepted (W3CDTF): 2024-03-18T10:02:43+09:00
Date Captured (W3CDTF): 2023-07-21
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
Availability of remote photoduplication service: 可
Periodical Title (URI): https://www.ebara.co.jp/jihou/no/list/detail/265-6.html
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/13381504
https://dl.ndl.go.jp/pid/13381504
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp