「蓄積電荷測定法」による有機・金属界面の電荷注入抵抗測定とトランジスタへの応用

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/14443828

Material type: 記事

Author: 角屋智史

Publisher: 京都技術科学センター

Publication date: -

Material Format: Digital

Journal name: 研究助成成果報告書 2021年度

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Digital

Material Type: 記事
Title: 「蓄積電荷測定法」による有機・金属界面の電荷注入抵抗測定とトランジスタへの応用
Author/Editor: 角屋智史
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 京都技術科学センター
Alternative Title: Estimation of charge injection barriers at the organic/metal interface using ''accumulated charge measurement'' and application to transistors
Periodical title: 研究助成成果報告書
No. or year of volume/issue: 2021年度
Volume: 2021年度
Text Language Code: jpn
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/14443828
https://dl.ndl.go.jp/pid/14443828
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
Acquisition Basis: インターネット資料収集保存事業（WARP）
Date Accepted (W3CDTF): 2025-08-01T13:06:39+09:00
Date Captured (W3CDTF): 2024-05-20
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Availability of remote photoduplication service: 不可
Periodical Title (URI): https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/13694366/www.khc.or.jp/enquiry/result/2021results.html
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/14443827
https://dl.ndl.go.jp/pid/14443827
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp

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