22nm世代ULSI配線用キャップ層をターゲットとしたSi-C2H4-Si豊富なPECVD-SiCH膜形成のための新規原料設計

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/3513071

Material type: 記事

Author: 清水秀治ほか

Publisher: 大陽日酸

Publication date: 2010-12-08

Material Format: Digital

Journal name: 大陽日酸技報 (29)

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Bibliographic Record

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Digital

Material Type: 記事
Title: 22nm世代ULSI配線用キャップ層をターゲットとしたSi-C2H4-Si豊富なPECVD-SiCH膜形成のための新規原料設計
Author/Editor: 清水秀治
永野修次
田島暢夫
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 大陽日酸
Publication Date: 2010-12-08
Publication Date (W3CDTF): 2010-12-08
Extent: 容量 : tnscgiho29_03.pdf(888660bytes)
Alternative Title: Design of novel precursor for development of Si-C2H4-Si networks in SiCH for application as a low-k cap layer beyond 22nm nodes
Periodical title: 大陽日酸技報
No. or year of volume/issue: (29)
Volume: (29)
Text Language Code: jpn
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/3513071
https://dl.ndl.go.jp/pid/3513071
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
Acquisition Basis: インターネット資料収集保存事業（WARP）
Date Accepted (W3CDTF): 2012-07-26T01:08:01+09:00
Date Captured (W3CDTF): 2011-01-18
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Availability of remote photoduplication service: 不可
Periodical Title (URI): https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/1284606/www.tn-sanso-giho.com/report29.html
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/3513067
https://dl.ndl.go.jp/pid/3513067
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp