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プロセスインテグレーション (半導体デバイスシリーズ ; 3)

プロセスインテグレーション (半導体デバイスシリーズ ; 3)
Paper図書
谷口研二, 鳥海明, 財満鎭明 編著, 大場隆之, 河崎尚夫, 綱島祥隆 著丸善2010.9<ND386-J110>
National Diet LibraryOther Libraries in Japan
  • Author Heading (ID)00176969 01210827 01210828 01211151 01211153 01211156 00...

シリコンナノエレクトロニクスの新展開に関する総括的研究

シリコンナノエレクトロニクスの新展開に関する総括的研究
Paper図書
財満鎭明, 名古屋大学 [著][財満鎭明]2006-2009<Y151-TR458-001>
National Diet Library
  • Author Heading (ID)01210828 00260057

反応性エピタキシヤル成長によるCoSi2/Si(100)ヘテロ構造形成の研究

反応性エピタキシヤル成長によるCoSi2/Si(100)ヘテロ構造形成の研究
Paper図書
財満, 鎮明, 名古屋大学1999-2001<Y151-H11450010>
National Diet Library
  • Author Heading (ID)01210828

4族半導体極微細プロセスに向けた固相反応のダイナミクス制御とCエンジニアリング

4族半導体極微細プロセスに向けた固相反応のダイナミクス制御とCエンジニアリング
Paper図書
財満鎭明, 名古屋大学 [著][財満鎭明]2003-2005<Y151-H15206004>
National Diet Library
  • Author Heading (ID)01210828 00260057

極薄ゲート酸化膜の原子層制御形成技術の開発

極薄ゲート酸化膜の原子層制御形成技術の開発
Paper図書
財満, 鎮明, 名古屋大学1997-1999<Y151-H09555098>
National Diet Library
  • Author Heading (ID)01210828 00260057

トンネル分光法を用いたシリサイド/シリコン界面の評価と水素終端効果の研究

トンネル分光法を用いたシリサイド/シリコン界面の評価と水素終端効果の研究
Paper図書
財満, 鎮明, 名古屋大学1995-1996<Y151-H07455024>
National Diet Library
  • Author Heading (ID)01210828 00260057

エピタキシヤル成長の動的素過程の時間分解測定法の開発と反応種の表面泳動の研究

エピタキシヤル成長の動的素過程の時間分解測定法の開発と反応種の表面泳動の研究
Paper図書
財満, 鎭明, 名古屋大学1992-1993<Y151-H04402017>
National Diet Library
  • Author Heading (ID)01210828 00260057

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