国立国会図書館サーチ(NDL SEARCH)
メニューを開く
検索
ヘルプ
ログイン
ヘルプ
ログイン
検索
絞り込み条件
絞り込み条件
図書館
項目を閉じる
国立国会図書館
全国の図書館
インターネットで閲覧できるものに絞る
タイトル
項目を閉じる
著者・編者
項目を閉じる
出版者
項目を閉じる
出版年(西暦)
項目を閉じる
年
〜
年
開く
2000年代
(1)
2010年代
(3)
2020年代
(1)
ISBN / ISSN
項目を閉じる
請求記号
項目を閉じる
資料種別
ヘルプページへのリンク
項目を閉じる
図書
(5)
雑誌
新聞
和古書・漢籍
博士論文
地図
楽譜
webサイト
電子書籍・電子雑誌
電子資料
映像資料
録音資料
規格・テクニカルリポート類
文書・図像類
すべて解除
雑誌記事等
資料形態
ヘルプページへのリンク
項目を閉じる
デジタル
紙
(5)
マイクロ
記録メディア
すべて解除
その他の分類
ヘルプページへのリンク
項目を閉じる
絞り込み条件
絞り込み条件
検索結果 5 件
20件ずつ表示
50件ずつ表示
100件ずつ表示
リスト表示
サムネイル表示
テーブル表示
適合度順
出版年:古い順
出版年:新しい順
タイトル:昇順
タイトル:降順
著者:昇順
著者:降順
請求記号順
タイトルでまとめる
一括お気に入り
Advanced materials for printed flexible electronics (Springer series in materials science ; volume 317)
Advanced materials for printed flexible electronics (Springer series in materials science ; volume 317)
紙
図書
Colin Tong
Springer
[2022]
<ND351-D29>
国立国会図書館
DDC
621.381531
Smart electronic systems : heterogeneous integration of silicon and printed electronics
Smart electronic systems : heterogeneous integration of silicon and printed electronics
紙
図書
Li-Rong Zheng, Hannu Tenhunen, Zhuo Zou.
Wiley-VCH
[2018]
<ND351-B101>
国立国会図書館
全国の図書館
DDC
621.381531
Metrology, inspection, and process control for microlithography XXIX : 23-26 February 2015 : San Jose, California, United States : 29th conference on metrology, inspection, and process control for microlithography : advanced lithography symposium : Feb 2015, San Jose, CA. (SPIE Proceedings ; 9424)
Metrology, inspection, and process control for microlithography XXIX : 23-26 February 2015 : San Jose, California, United States : 29th conference on metrology, inspection, and process control for microlithography : advanced lithography symposium : Feb 2015, San Jose, CA. (SPIE Proceedings ; 9424)
紙
図書
SPIE
[2015]
<M17-15-3026>
国立国会図書館
DDC
621.381531
Stretchable electronics
Stretchable electronics
紙
図書
edited by Takao Someya.
Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA
[2013]
<ND351-B66>
国立国会図書館
DDC
621.381531
Photomask and next-generation lithography mask technology 16 : 8-10 April 2009 : Yokohama, Japan. : Apr 2009, Yokohama, Japan. (SPIE Proceedings ; 7379)
Photomask and next-generation lithography mask technology 16 : 8-10 April 2009 : Yokohama, Japan. : Apr 2009, Yokohama, Japan. (SPIE Proceedings ; 7379)
紙
図書
SPIE
c2009.
<M17-10-1556>
国立国会図書館
DDC
621.381531
検索結果は以上です。
書誌情報を一括出力