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ラングミュア吸着・反応制御プロセスを駆使して製作する4族半導体極微細デバイス

ラングミュア吸着・反応制御プロセスを駆使して製作する4族半導体極微細デバイス
紙図書
室田淳一, 東北大学1996-1998<Y151-H08405022>
国立国会図書館
  • 件名ラングミユア吸着・反応 IV族半導体 極微細デバイス 原子層成長 表面処理 原子層エツチング 水素終端 低温ヘテ...

金属と絶縁体のヘテロ接合超格子による光・電子集積化デバイス用高機能材料の研究

金属と絶縁体のヘテロ接合超格子による光・電子集積化デバイス用高機能材料の研究
紙図書
浅田, 雅洋, 東京工業大学1999-2000<Y151-H11555084>
国立国会図書館
  • 件名金属/絶縁体/半導体ヘテロ接合 フツ化カルシウム フツ化カドミウム 共鳴トンネルダイオード 極微細デバイス 量子効果デバイス イオン化ビーム結晶成長

Si系超格子デバイス作製のための原子制御CVD装置の開発研究

Si系超格子デバイス作製のための原子制御CVD装置の開発研究
紙図書
室田, 淳一, 東北大学1995-1997<Y151-H07555409>
国立国会図書館
  • 件名原子制御CVD装置 Si系超格子デバイス 瞬時加熱CVD法 プラズマ表面処理 極微細デバイス 不純物ドーピング W低温選択成長 Langmuir型吸着

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