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格子歪み制御されたSi表面での熱酸化反応ダイナミクスの研究

格子歪み制御されたSi表面での熱酸化反応ダイナミクスの研究
Paper図書
高桑雄二, 東北大学 [著][高桑雄二]2004-2005<Y151-H16360015>
National Diet Library
  • Subject Heading格子歪み / Si熱酸化 / 反応ダイナミクス / RHEED-AES / リアルタイムモニタリング / Si原子放出 / 律速反応 / ゲート酸化膜

原子層MOCVDと分光エリプソメトリによる高誘電率酸化膜超薄膜の原子レベル制御

原子層MOCVDと分光エリプソメトリによる高誘電率酸化膜超薄膜の原子レベル制御
Paper図書
小田俊理, 東京工業大学 [著][小田俊理]2002-2003<Y151-H14350160>
National Diet Library
  • Subject Heading原子層MOCVD / 分光エリプソメトリ / 高誘電率ゲート酸化膜 / 薄膜堆積その場観察 / MOSFET / チャネル移...

超LSIの完全ドライ・トータル低温製造ラインシステムの試作研究

超LSIの完全ドライ・トータル低温製造ラインシステムの試作研究
Paper図書
大見, 忠弘, 東北大学1992-1993<Y151-H04505002>
National Diet Library
  • Subject Headingドライプロセス 低温プロセス 超LSI 半導体製造装置 イオン注入 静電気障害 MOSFET ゲート酸化

負イオンビームによるチヤージアツプ・フリー・イオン注入技術の開発

負イオンビームによるチヤージアツプ・フリー・イオン注入技術の開発
Paper図書
石川, 順三, 京都大学1993-1994<Y151-H05555008>
National Diet Library
  • Subject Heading負イオン注入 負イオンビーム輸送 チヤージアツプ 二次電子エネルギー分布 二次電子放出比 帯電緩和 絶縁物 ゲート酸化膜

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