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省電力LSI用高誘電率ゲート絶縁膜の薄膜スケーリング手法の構築

省電力LSI用高誘電率ゲート絶縁膜の薄膜スケーリング手法の構築
Paper図書
中島寛, 九州大学 [著][中島寛]2006-2007<Y151-H18360152>
National Diet Library
  • Subject Heading高誘電率絶縁膜 / シリコン / 電子サイクロトロン共鳴プラズマ / 省電力LSI / Hf酸化膜 / メタルゲート / TaN / 仕事関数

メタルゲート/高誘電率金属酸化物ゲート絶縁膜スタック構造の真空一貫原子層成長

メタルゲート/高誘電率金属酸化物ゲート絶縁膜スタック構造の真空一貫原子層成長
Paper図書
中島安理, 広島大学 [著][中島安理]2001-2003<Y151-H13450129>
National Diet Library
  • Subject Headingメタルゲート / 高誘電率金属酸化物 / ゲート絶縁膜 / スタック構造...

金属基板SOI・メタルゲート高誘電率絶縁膜CMOS超高速集積回路の研究

金属基板SOI・メタルゲート高誘電率絶縁膜CMOS超高速集積回路の研究
Paper図書
大見, 忠弘, 東北大学1993-1994<Y151-H05402039>
National Diet Library
  • Subject Headingメタルゲート電極 高誘電率ゲート絶縁膜 金属基板 コンタクト抵抗 銅配線...

半導体内部に金属領域を有する超高速集積回路の研究

半導体内部に金属領域を有する超高速集積回路の研究
Paper図書
大見, 忠弘, 東北大学1990-1991<Y151-H02402031>
National Diet Library
  • Subject Headingメタルゲート自己整合MOSFET イオン注入層低温アニール Cu配線技術...

高誘電率ゲート絶縁膜の薄膜化と電界効果トランジスタのキャリア輸送への影響

高誘電率ゲート絶縁膜の薄膜化と電界効果トランジスタのキャリア輸送への影響
Digital博士論文
安藤, 崇志
Available onlineOther Libraries in Japan
  • Subject HeadingHigh-k Metal Gate Mobility CMOS DRAM 高誘電率 メタルゲート 移動度

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