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次世代超高密度デバイス用極薄絶縁膜の開発

次世代超高密度デバイス用極薄絶縁膜の開発
Paper図書
尾嶋, 正治, 東京大学1998-2000<Y151-H10555100>
National Diet Library
  • Subject Headingシリコン 酸化膜 放射光 光電子分光 酸窒化膜 ULSI

極薄ゲート酸窒化膜中の窒素分布の定量分析法の開発

極薄ゲート酸窒化膜中の窒素分布の定量分析法の開発
Paper図書
木村, 健二, 京都大学2000-2001<Y151-H12555090>
National Diet Library
  • Subject Headingゲート酸窒化膜 窒素分布 高分解能 ラザフオード後方散乱法 SIMS AE...

一酸化二窒素ガスを用いた急速熱処理による高品質極薄シリコン酸窒化膜の形成

一酸化二窒素ガスを用いた急速熱処理による高品質極薄シリコン酸窒化膜の形成
Paper図書
野村, 滋, 室蘭工業大学1998-1999<Y151-H10650328>
National Diet Library
  • Subject Headingシリコンテクノロジー 一酸化二窒素ガス 急速熱処理 極薄シリコン酸窒化膜 デバイスプロセス

超高真空非接触・非破壊容量-電圧測定システムの開発

超高真空非接触・非破壊容量-電圧測定システムの開発
Paper図書
長谷川, 英機, 北海道大学1996-1998<Y151-H08555072>
National Diet Library
  • Subject Heading非接触・C-V 超高真空一貫システム 表面・界面準位 表面プロセス フエルミ準位ピンニング 水素終端シリコン表面 極博絶縁膜 ECRプラズマ 酸窒化膜

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