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電子線リソグラフィによる超精密微細加工技術とそのナノインプリントモールド製造への応用に関する研究

電子線リソグラフィによる超精密微細加工技術とそのナノインプリントモールド製造への応用に関する研究
紙博士論文
法元盛久 [著][法元盛久][2011]<UT51-2011-P64>
国立国会図書館

フォトマスク : 電子部品製造の基幹技術

フォトマスク : 電子部品製造の基幹技術
紙デジタル図書
田邉功, 竹花洋一, 法元盛久 共著東京電機大学出版局2011.4<ND386-J131>
国立国会図書館全国の図書館

Photomask and next-generation lithography mask technology 13 : 18-20 April 2006 : Yokohama, Japan. : Apr 2006, Yokohama, Japan. (SPIE Proceedings ; 6283)

Photomask and next-generation lithography mask technology 13 : 18-20 April 2006 : Yokohama, Japan. : Apr 2006, Yokohama, Japan. (SPIE Proceedings ; 6283)
紙図書
SPIEc2006.<M17-06-2188>
国立国会図書館
  • 著者標目Japan Society of Applied Physics. Hoga, Morihisa.

入門フォトマスク技術 : LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク

入門フォトマスク技術 : LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク
紙図書
田邉功, 竹花洋一, 法元盛久 著工業調査会2006.12<ND386-H207>
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