下妻, 光夫, 北海道大学1998-1999<Y151-H10650298>
国立国会図書館
- 件名TiN プラズマCVD 薄膜生成 低周波プラズマ 低周波プラズマCVD 拡散バリア材 薄膜低温形成 集積回路材
伊達, 広行, 北海道大学1992-1993<Y151-H04555018>
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- 件名プラズマCVD シリコン酸化膜 低周波プラズマ TEOS 薄膜生成 低温プロセス 集積回路ドライプロセス ...
下妻, 光夫, 北海道大学1990-1992<Y151-H02555056>
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- 件名低周波プラズマCVD法 CH4+H2混合ガス ドライプロセス 薄膜堆積 ア...
真壁, 利明, 慶応義塾大学1988-1989<Y151-S63550220>
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- 件名低周波プラズマ 反応性プラズマ CH4 H2プラズマ 時間、空間分解発光分...