堀池, 靖浩, 東京大学1996-1998<Y151-H08455022>
国立国会図書館
- 件名フツ素 水素終端Si表面 フツ素終端Si表面 XPS 原子層エツチング 2原子層酸化 水素ラジカル (NH4) 2SiF6
松浦, 孝, 東北大学1994-1996<Y151-H06555089>
国立国会図書館
- 件名原子層エツチング シリコン 自己制限型 ECRプラズマ 塩素 低エネルギーイ...
室田淳一, 東北大学1996-1998<Y151-H08405022>
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- 件名ラングミユア吸着・反応 IV族半導体 極微細デバイス 原子層成長 表面処理 原子層エツチング 水素終端 低温ヘテロエピタキシヤル成長
松浦, 孝, 東北大学1994-1995<Y151-H06452211>
国立国会図書館
- 件名原子層エツチング 自己制限型吸着 シリコン 面方位依存性 ECR塩素プラズマ...