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Plasma electronics : applications in microelectronic device fabrication Second edition.
Plasma electronics : applications in microelectronic device fabrication Second edition.
紙
図書
Toshiaki Makabe, Zoran Lj. Petrovic.
CRC Press
[2015]
<MC241-B33>
国立国会図書館
Plasma electronics : applications in microelectronic device fabrication : pbk 2nd ed
Plasma electronics : applications in microelectronic device fabrication : pbk 2nd ed
紙
図書
Toshiaki Makabe, Zoran Lj. Petrovic
CRC Press
2016, c2015
全国の図書館
Plasma electronics : applications in microelectronic device fabrication : hardback 2nd ed
Plasma electronics : applications in microelectronic device fabrication : hardback 2nd ed
紙
図書
Toshiaki Makabe, Zoran Lj. Petrovic
CRC Press
c2015
全国の図書館
21世紀創造技術立国への道
21世紀創造技術立国への道
紙
図書
真壁利明 編著
培風館
2006.10
<M42-H182>
国立国会図書館
全国の図書館
「つかの間の幸せを捕える」ことができただろうか
「つかの間の幸せを捕える」ことができただろうか
デジタル
文書・図像類
真壁, 利明
慶應義塾大学グローバルCOEプログラム論理と感性の先端的教育研究拠点
2009-12
Newsletter
10
p.1-2
全国の図書館
Plasma electronics : applications in microelectronic device fabrication / T. Makabe, Z. Petrović. (Series in plasma physics)
Plasma electronics : applications in microelectronic device fabrication / T. Makabe, Z. Petrović. (Series in plasma physics)
紙
図書
Taylor & Francis
2006.
<MC241-B7>
国立国会図書館
PDP用高周波駆動マイクロプラズマセルの開発
PDP用高周波駆動マイクロプラズマセルの開発
紙
図書
真壁, 利明, 慶応義塾大学
1997-1999
<Y151-H09450146>
国立国会図書館
高周波駆動マイクロプラズマ・デイスプレイパネルの開発
高周波駆動マイクロプラズマ・デイスプレイパネルの開発
紙
図書
真壁, 利明, 慶応義塾大学
1997-1999
<Y151-H09555111>
国立国会図書館
Plasma electronics : applications in microelectronic device fabrication
Plasma electronics : applications in microelectronic device fabrication
紙
図書
by T. Makabe and Z. Petrović
Taylor & Francis
2006
全国の図書館
半導体プロセス用低温高周波プラズマの理論体系の確立
半導体プロセス用低温高周波プラズマの理論体系の確立
紙
図書
真壁, 利明, 慶応義塾大学
1996-1997
<Y151-H08044169>
国立国会図書館
確率過程 (電気・電子・情報工学系テキストシリーズ ; 18)
確率過程 (電気・電子・情報工学系テキストシリーズ ; 18)
紙
図書
中川正雄, 真壁利明 共著
培風館
2002.4
<MA211-G298>
国立国会図書館
全国の図書館
プラズマエレクトロニクス (電気・電子・情報工学系テキストシリーズ ; 7)
プラズマエレクトロニクス (電気・電子・情報工学系テキストシリーズ ; 7)
紙
図書
真壁利明 著
培風館
1999.7
<MC241-G10>
国立国会図書館
全国の図書館
Advances in low temperature RF plasmas : basis for process design : hbk
Advances in low temperature RF plasmas : basis for process design : hbk
紙
図書
edited by T. Makabe
Elsevier
2002
全国の図書館
次世代ドライエツチ用,狭ギヤツプVHFエツチヤの物理とプロセス最適制御
次世代ドライエツチ用,狭ギヤツプVHFエツチヤの物理とプロセス最適制御
紙
図書
真壁, 利明, 慶応義塾大学
1993-1994
<Y151-H05452106>
国立国会図書館
低周波反応性プラズマのハイブリツド最適制御
低周波反応性プラズマのハイブリツド最適制御
紙
図書
真壁, 利明, 慶応義塾大学
1988-1989
<Y151-S63550220>
国立国会図書館
Townsend放電域における電子エネルギー分布関数の研究
Townsend放電域における電子エネルギー分布関数の研究
紙
博士論文
真壁利明 [著]
<UT51-53-J16>
国立国会図書館
プラズマプロセスにおけるフリーラジカルに関する研究
プラズマプロセスにおけるフリーラジカルに関する研究
デジタル
文書・図像類
後藤, 俊夫, 菅井, 秀郎, 村岡, 克紀, 橘, 邦英, 渡辺, 征夫, 真壁, 利明, 安田, 幸夫, 田頭, 博昭
1997-02
インターネットで読める
全国の図書館
アクセス網高度化光・電子デバイス技術 : 慶應義塾大学平成14年度採択21世紀COEプログラム (情報・電気・電子)
アクセス網高度化光・電子デバイス技術 : 慶應義塾大学平成14年度採択21世紀COEプログラム (情報・電気・電子)
紙
図書
慶應義塾大学理工学研究科総合デザイン工学専攻, 慶應義塾大学理工学研究科開放環境科学専攻 [編]
Keio University
[2004.3]-
全国の図書館
確率過程 : 理工学基礎 確率の基礎からランダム・プロセスまで
確率過程 : 理工学基礎 確率の基礎からランダム・プロセスまで
紙
デジタル
図書
中川正雄, 真壁利明 共著
培風館
1987.1
<MA211-466>
国立国会図書館
全国の図書館
確率過程 : 確率の基礎からランダム・プロセスまで
確率過程 : 確率の基礎からランダム・プロセスまで
紙
図書
中川正雄, 真壁利明共著
培風館
1987
全国の図書館
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